ニシカワ タダシ
NISHIKAWA Tadashi
西川 正 所属 東京電機大学 工学部 電子システム工学科 東京電機大学 工学部 電気電子工学科 東京電機大学大学院 先端科学技術研究科 電気電子システム工学専攻 東京電機大学大学院 工学研究科 電気電子工学専攻 職種 教授 |
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発表年月日 | 1999/06 |
発表テーマ | Pump-probe measurement of silicon L2,3 absorption edge change induced by femtosecond laser pulses |
会議名 | Applications of High Field and Short Wavelength Sources VIII (HFSW '99) |
学会区分 | 国際学会 |
発表形式 | 口頭(招待・特別) |
単独共同区分 | 共同 |
招待講演 | 招待講演 |
開催地名 | Potsdam (Germany) |
発表者・共同発表者 | Hidetoshi Nakano, Yoshinori Goto, Peixiang Lu, Tadashi Nishikawa, and Naoshi Uesugi |
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