ニシカワ　タダシ   NISHIKAWA Tadashi   西川　正    所属   東京電機大学  工学部 電子システム工学科    東京電機大学  工学部 電気電子工学科    東京電機大学大学院  先端科学技術研究科 電気電子システム工学専攻    東京電機大学大学院  工学研究科 電気電子工学専攻    職種   教授
発表年月日	2005/05
発表テーマ	Time-resolved x-ray absorption fine structure measurement of laser-melted Si with femtosecond laser-produced-plasma x-ray source
会議名	Quantum Electronics and Laser Science Conference (QELS 2005)
学会区分	国際学会
発表形式	口頭（一般）
単独共同区分	共同
開催地名	Baltimore (USA)
発表者・共同発表者	K. Oguri, Y. Okano, T. Nishikawa, and H. Nakano
頁	QFC4