ヒラクリ ケンジ   HIRAKURI Kenji
  平栗 健二
   所属   東京電機大学  工学部 電気電子工学科
   東京電機大学大学院  先端科学技術研究科 電気電子システム工学専攻
   東京電機大学大学院  工学研究科 電気電子工学専攻
   職種   教授
発表年月日 2015/04/08
発表テーマ Effect of oxygen plasma treatment for various a-C:H films
会議名 The 5th International Symposium on Surface and Interface of Biomaterials (ISSIB 2015)
学会区分 国際学会
発表形式 口頭(招待・特別)
単独共同区分 共同
開催地名 Sydney, Australia
発表者・共同発表者 Y. Ohgoe, U. Kawachi, K. Hirakuri. A. Homma