ニシカワ タダシ
NISHIKAWA Tadashi
西川 正 所属 東京電機大学 工学部 電子システム工学科 東京電機大学 工学部 電気電子工学科 東京電機大学大学院 先端科学技術研究科 電気電子システム工学専攻 東京電機大学大学院 工学研究科 電気電子工学専攻 職種 教授 |
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言語種別 | 英語 |
発行・発表の年月 | 1998/05 |
形態種別 | 学術研究論文 |
査読 | 査読有り |
標題 | Strongly enhanced soft x-ray emission at 8 nm from plasma on a neodymium-doped glass surface heated by femtosecond laser pulses |
執筆形態 | 共著 |
掲載誌名 | Appl. Phys. Lett |
巻・号・頁 | 72(18),pp.2208-2210 |
著者・共著者 | H. Nakano, T. Nishikawa, and N. Uesugi |