オグラ ショウヘイ   OGURA Shohei
  小倉 正平
   所属   東京電機大学  工学部 自然科学系列(工学部)
   職種   准教授
言語種別 英語
発行・発表の年月 2020/06
形態種別 学術研究論文
査読 査読有り
標題 Impact of deposition of indium tin oxide double layers on hydrogenated amorphous silicon/crystalline silicon heterojunction
執筆形態 共著
掲載誌名 AIP Advances
掲載区分国外
著者・共著者 M. Semma, K. Gotoh, M. Wilde, S. Ogura, Y. Kurokawa, K. Fukutani, N. Usami
DOI 10.1063/5.0009994
PermalinkURL https://aip.scitation.org/doi/10.1063/5.0009994