オグラ ショウヘイ   OGURA Shohei
  小倉 正平
   所属   東京電機大学  工学部 自然科学系列(工学部)
   職種   准教授
言語種別 英語
発行・発表の年月 2019/07
形態種別 学術研究論文
査読 査読有り
標題 Hydrogen concentration at a-Si:H/c-Si heterointerfaces - the impact of deposition temperature on passivation performance
執筆形態 共著
掲載誌名 AIP Advances
掲載区分国外
巻・号・頁 9,pp.075115
著者・共著者 K. Gotoh, M. Wilde, S. Kato, S. Ogura, Y. Kurokawa, K. Fukutani, N. Usami
DOI 10.1063/1.5100086
PermalinkURL https://aip.scitation.org/doi/10.1063/1.5100086