オグラ ショウヘイ
OGURA Shohei
小倉 正平 所属 東京電機大学 工学部 自然科学系列(工学部) 職種 准教授 |
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言語種別 | 英語 |
発行・発表の年月 | 2019/07 |
形態種別 | 学術研究論文 |
査読 | 査読有り |
標題 | Hydrogen concentration at a-Si:H/c-Si heterointerfaces - the impact of deposition temperature on passivation performance |
執筆形態 | 共著 |
掲載誌名 | AIP Advances |
掲載区分 | 国外 |
巻・号・頁 | 9,pp.075115 |
著者・共著者 | K. Gotoh, M. Wilde, S. Kato, S. Ogura, Y. Kurokawa, K. Fukutani, N. Usami |
DOI | 10.1063/1.5100086 |
PermalinkURL | https://aip.scitation.org/doi/10.1063/1.5100086 |