フジカワ サチエ   FUJIKAWA Sachie
  藤川 紗千恵
   所属   東京電機大学  工学部 電気電子工学科
   東京電機大学大学院  工学研究科 電気電子工学専攻
   職種   助教(A)
言語種別 日本語
発行・発表の年月 2013/12
形態種別 学術研究論文
査読 査読有り
標題 Comparative Study on Nano-Scale III-V Double-Gate MOSFETs with Various Channel Materials
執筆形態 共著
掲載誌名 Physica Status Solidi C
掲載区分国外
巻・号・頁 10(11),1413-1416頁
著者・共著者 Akio Nishida, Kei Hasegawa, Ryoko Ohama, Sachie Fujikawa, Shinsuke Hara, and Hiroki I. Fujishiro