(最終更新日:2020-04-02 16:38:18)
  シノダ ヒロユキ   SHINODA Hiroyuki
  篠田 宏之
   所属   東京電機大学  工学部 電子システム工学科
   東京電機大学大学院  先端科学技術研究科 電気電子システム工学専攻
   東京電機大学大学院  工学研究科 電気電子工学専攻
   職種   教授
■ 著書・論文歴
1. 著書  化合物半導体の最新情報 大全集 (共著) 2007
2. 論文  Surface Contamination with Si and O Impurities for GaN Single-Crystalline Layers Grown by Ultra-High-Vacuum Sputter Epitaxy (共著) 2019/10
3. 論文  Properties of Highly c-axis Oriented Single-crystalline ZnO Layers Grown by Sputter Epitaxy for Hydrogen Gas and UV Sensors (共著) 2019/01
4. 論文  Application of highly c-axis oriented single-crystalline ZnO layers grown by sputter epitaxy to hydrogen gas sensor and UV sensor (共著) 2018/09
5. 論文  Applying neural network to photosynthesis evaluation using plant bioelectricity (共著) 2017/03
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■ 学会発表
1. 2011/08/31 UHVスパッタエピタキシーによるAlN単結晶層の成長(II)(第72回応用物理学会学術講演会)
2. 2011/08/31 UHVスパッタエピタキシーによるInGaN単結晶層の成長(III)(第72回応用物理学会学術講演会)
3. 2011/08/31 UHVスパッタエピタキシーによるInGaN単結晶層の成長(II)(第72回応用物理学会学術講演会)
4. 2011/08/31 スパッタエピタキシー法によるZnO単結晶層の成長(III)(第72回応用物理学会学術講演会)
5. 2011/08/31 スパッタエピタキシー法によるZnO単結晶層の成長(IV)(第72回応用物理学会学術講演会)
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■ 講師・講演
1. 2013/09 スパッタ技術による高品質半導体薄膜の形成とその応用(東京電機大学東京千住キャンパス)
2. 2014/03 スパッタエピタキシー法によるGaN系及びZnO系半導体単結晶層の成長(東京都港区)
3. 2019/11 SEM を用いた半導体薄膜の評価(東京都千代田区大手町)
■ 展覧会・演奏会・競技会等
1. 2018/12/12~2018/12/14 SEMICON Japan 2018(東京ビッグサイト)
2. 2019/12/11~2019/12/13 SEMICON Japan 2019(東京ビッグサイト)