シノダ ヒロユキ   SHINODA Hiroyuki
  篠田 宏之
   所属   東京電機大学  工学部 電子システム工学科
   東京電機大学大学院  先端科学技術研究科 電気電子システム工学専攻
   東京電機大学大学院  工学研究科 電気電子工学専攻
   職種   教授
発表年月 2013/09
発表テーマ スパッタ技術による高品質半導体薄膜の形成とその応用
会議名 平成25年度次世代産業カレッジ
主催者 埼玉県産業労働部産業支援課
開催地名 東京電機大学東京千住キャンパス
会議区分 国内会議
講演区分 講師
単独共同区分 単独
発表者・共同発表者 篠田宏之