ニシカワ タダシ   NISHIKAWA Tadashi
  西川 正
   所属   東京電機大学  工学部 電子システム工学科
   東京電機大学  工学部 電気電子工学科
   東京電機大学大学院  先端科学技術研究科 電気電子システム工学専攻
   東京電機大学大学院  工学研究科 電気電子工学専攻
   職種   教授
発表年月日 1995/04
発表テーマ Dependence of x-ray yield from aluminum plasma produced by a pair of femtosecond Ti:sapphire laser pulses on pulse time separation
会議名 12th International Conference on Laser Interaction and Related Plasma Phenomena
学会区分 国際学会
発表形式 ポスター
単独共同区分 共同
開催地名 Osaka (Japan)
発表者・共同発表者 Hidetoshi Nakano, Tadashi Nishikawa, Hyeyoung Ahn, and Naoshi Uesugi
TuP-20.1