ニシカワ タダシ   NISHIKAWA Tadashi
  西川 正
   所属   東京電機大学  工学部 電子システム工学科
   東京電機大学  工学部 電気電子工学科
   東京電機大学大学院  先端科学技術研究科 電気電子システム工学専攻
   東京電機大学大学院  工学研究科 電気電子工学専攻
   職種   教授
発表年月日 1996/03
発表テーマ X-ray generation from femtosecond Ti: Al2O3 laser produced plasma on porous silicon
会議名 Photon Technology Workshop
学会区分 国際学会
発表形式 口頭(一般)
単独共同区分 共同
開催地名 Tsukuba (Japan)
発表者・共同発表者 Tadashi Nishikawa, Hidetoshi Nakano, Hyeyoung Ahn, Tadashi Serikawa, and Naoshi Uesugi
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