ニシカワ タダシ   NISHIKAWA Tadashi
  西川 正
   所属   東京電機大学  工学部 電子システム工学科
   東京電機大学  工学部 電気電子工学科
   東京電機大学大学院  先端科学技術研究科 電気電子システム工学専攻
   東京電機大学大学院  工学研究科 電気電子工学専攻
   職種   教授
発表年月日 1999/07
発表テーマ Time-resolved soft x-ray absorption measurement near silicon LII,III edge using femtosecond laser-produced plasma x-rays
会議名 The 6th International Workshop on Femtosecond Technology
学会区分 国際学会
発表形式 口頭(一般)
単独共同区分 共同
開催地名 Makuhari (Japan)
発表者・共同発表者 Hidetoshi Nakano, Peixiang Lu, Tadashi Nishikawa, and Naoshi Uesugi
TA-15