ニシカワ　タダシ   NISHIKAWA Tadashi   西川　正    所属   東京電機大学  工学部 電子システム工学科    東京電機大学  工学部 電気電子工学科    東京電機大学大学院  先端科学技術研究科 電気電子システム工学専攻    東京電機大学大学院  工学研究科 電気電子工学専攻    職種   教授
発表年月日	1999/07
発表テーマ	Time-resolved soft x-ray absorption measurement near silicon LII,III edge using femtosecond laser-produced plasma x-rays
会議名	The 6th International Workshop on Femtosecond Technology
学会区分	国際学会
発表形式	口頭（一般）
単独共同区分	共同
開催地名	Makuhari (Japan)
発表者・共同発表者	Hidetoshi Nakano, Peixiang Lu, Tadashi Nishikawa, and Naoshi Uesugi
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