ニシカワ タダシ
NISHIKAWA Tadashi
西川 正 所属 東京電機大学 工学部 電子システム工学科 東京電機大学 工学部 電気電子工学科 東京電機大学大学院 先端科学技術研究科 電気電子システム工学専攻 東京電機大学大学院 工学研究科 電気電子工学専攻 職種 教授 |
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発表年月日 | 2003/09 |
発表テーマ | Sampling measurement of femtosecond soft x-ray pulse shape using transient state of singly charged ions during sequential ionization in krypton |
会議名 | International Symposium on Ultrafast Intense Laser Science 2: Technology, Trends, Propagation and Interaction (ISUILS2) |
学会区分 | 国際学会 |
発表形式 | 口頭(一般) |
単独共同区分 | 共同 |
開催地名 | Quebec (Canada) |
発表者・共同発表者 | K. Oguri, T. Nishikawa, and H. Nakano |
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