ニシカワ タダシ   NISHIKAWA Tadashi
  西川 正
   所属   東京電機大学  工学部 電子システム工学科
   東京電機大学  工学部 電気電子工学科
   東京電機大学大学院  先端科学技術研究科 電気電子システム工学専攻
   東京電機大学大学院  工学研究科 電気電子工学専攻
   職種   教授
発表年月日 2004/09
発表テーマ Time-resolved observation of melted Si by ultrafast absorption spectroscopy using femtosecond laser-produced-plasma x-rays
会議名 Third International Symposium on Ultrafast Intense Laser Science 3(ISUILS3)
学会区分 国際学会
発表形式 ポスター
単独共同区分 共同
開催地名 Palermo (Italy)
発表者・共同発表者 K. Oguri, Y. Okano, T. Nishikawa, and H. Nakano
P-20