ヒラクリ　ケンジ   HIRAKURI Kenji   平栗　健二    所属   東京電機大学  工学部 電気電子工学科    東京電機大学大学院  先端科学技術研究科 電気電子システム工学専攻    東京電機大学大学院  工学研究科 電気電子工学専攻    職種   教授
発表年月日	2015/05/25
発表テーマ	Effects of oxygen plasma treatment for a-C:H films
会議名	Conference on New Diamonds and Nano Carbons
学会区分	国際学会
発表形式	口頭（一般）
単独共同区分	共同
開催地名	Shizuoka, Japan
発表者・共同発表者	Y. Kawachi, Y. Ohgoe, T. Arafune, H. Noguchi, K. K. Hirakuri, A. Homma