ヒラクリ ケンジ
HIRAKURI Kenji
平栗 健二 所属 東京電機大学 工学部 電気電子工学科 東京電機大学大学院 先端科学技術研究科 電気電子システム工学専攻 東京電機大学大学院 工学研究科 電気電子工学専攻 職種 教授 |
|
発表年月日 | 2015/05/25 |
発表テーマ | Effects of oxygen plasma treatment for a-C:H films |
会議名 | Conference on New Diamonds and Nano Carbons |
学会区分 | 国際学会 |
発表形式 | 口頭(一般) |
単独共同区分 | 共同 |
開催地名 | Shizuoka, Japan |
発表者・共同発表者 | Y. Kawachi, Y. Ohgoe, T. Arafune, H. Noguchi, K. K. Hirakuri, A. Homma |