ヒラクリ ケンジ   HIRAKURI Kenji
  平栗 健二
   所属   東京電機大学  工学部 電気電子工学科
   東京電機大学大学院  先端科学技術研究科 電気電子システム工学専攻
   東京電機大学大学院  工学研究科 電気電子工学専攻
   職種   教授
言語種別 英語
発行・発表の年月 2013/03
形態種別 学術研究論文
査読 査読有り
標題 Influence of the source gas ratio on the hydrogen and deuterium content of a-C:H and a-C:D films: Plasma-enhanced CVD with CH4/H2, CH4/D2, CD4/H2 and CD4/D2
執筆形態 共著
著者・共著者 K. Ozeki, D. Sekiba, T. Suzuki, K. Kanda, M. Niibe, K.K. Hirakuri, T. Masuzawa