ヒラクリ　ケンジ   HIRAKURI Kenji   平栗　健二    所属   東京電機大学  工学部 電気電子工学科    東京電機大学大学院  先端科学技術研究科 電気電子システム工学専攻    東京電機大学大学院  工学研究科 電気電子工学専攻    職種   教授
言語種別	英語
発行・発表の年月	2013/03
形態種別	学術研究論文
査読	査読有り
標題	Influence of the source gas ratio on the hydrogen and deuterium content of a-C:H and a-C:D films: Plasma-enhanced CVD with CH4/H2, CH4/D2, CD4/H2 and CD4/D2
執筆形態	共著
著者・共著者	K. Ozeki, D. Sekiba, T. Suzuki, K. Kanda, M. Niibe, K.K. Hirakuri, T. Masuzawa