シノダ ヒロユキ   SHINODA Hiroyuki
  篠田 宏之
   所属   東京電機大学  工学部 電子システム工学科
   東京電機大学大学院  先端科学技術研究科 電気電子システム工学専攻
   東京電機大学大学院  工学研究科 電気電子工学専攻
   職種   教授
言語種別 英語
発行・発表の年月 2002
形態種別 学術研究論文
査読 査読有り
標題 Deposition of an InN thin film by a r. f. plasma-assisted reactive ion-beam sputtering deposition (R-IBSD) technique
執筆形態 共著
掲載誌名 Diamond and Related Materials