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オグラ ショウヘイ
OGURA Shohei
小倉 正平 所属 東京電機大学 工学部 自然科学系列（工学部） 職種 准教授 |
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| 言語種別 | 英語 |
| 発行・発表の年月 | 2018/08 |
| 形態種別 | 学術研究論文 |
| 査読 | 査読有り |
| 標題 | Activation mechanism of TiOx passivating layer on crystalline Si |
| 執筆形態 | 共著 |
| 掲載誌名 | Applied Physics Express |
| 掲載区分 | 国外 |
| 巻・号・頁 | 11(10),pp.102301 |
| 著者・共著者 | T. Mochizuki,K. Gotoh,A. Ohta,S. Ogura,Y. Kurokawa,S. Miyazaki,K. Fukutani,N. Usami |
| PermalinkURL | http://iopscience.iop.org/article/10.7567/APEX.11.102301 |