オグラ ショウヘイ   OGURA Shohei
  小倉 正平
   所属   東京電機大学  工学部 自然科学系列(工学部)
   職種   准教授
言語種別 英語
発行・発表の年月 2020/01
形態種別 学術研究論文
査読 査読有り
標題 Effect of hydrogen plasma treatment on the passivation performance of TiOx on crystalline silicon prepared by atomic layer deposition
執筆形態 共著
掲載誌名 Journal of Vacuum Science&Technology A
掲載区分国外
巻・号・頁 38,pp.022410
著者・共著者 Shinsuke Miyagawa,Kazuhiro Gotoh,Shohei Ogura,Markus Wilde,Yasuyoshi Kurokawa,Katsuyuki Fukutani,Noritaka Usami
DOI 10.1116/1.5134720
PermalinkURL https://avs.scitation.org/doi/10.1116/1.5134720