フジカワ サチエ   FUJIKAWA Sachie
  藤川 紗千恵
   所属   東京電機大学  工学部 電気電子工学科
   東京電機大学大学院  工学研究科 電気電子工学専攻
   職種   助教(A)
言語種別 英語
発行・発表の年月 2019/02
形態種別 学術研究論文
査読 査読有り
標題 Advantage of Heteroepitaxial GaSb Thin-film Buffer and GaSb Dot Nucleation Layer for GaSb/AlGaSb Multiple Quantum Well Structure Grown on Si(100) Substrate by Molecular Beam Epitaxy
執筆形態 共著
掲載誌名 Journal of Crystal Growth
掲載区分国外
巻・号・頁 507(1),pp.357-361
著者・共著者 Ryuto Machida, Kouichi Akahane, Issei Watanabe, Shinsuke Hara, Sachie Fujikawa, Akifumi Kasamatsu, Hiroki I.Fujishiro