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（最終更新日 : 2025-04-15 13:00:32）
コウヤ サトシ
Satoshi Kouya
幸谷 智
所属
東京電機大学 工学部 情報通信工学科
職種
准教授
メニュー
著書・論文歴
受賞学術賞
所属学会
職歴
学会発表
著書・論文歴
1.
論文
Controlling Shape and Position of Silicon Micro-nanorolls Fabricated using Fine Bubbles during Anodization 18th International Conference on Materials Science and Engineering (ICMSE) 2024 (共著) 2024/12/10
2.
論文
フェーズドアレーを用いた無線回線遮断法 日本シミュレーション学会論文誌 15 (2),51-55頁 (単著) 2023/09/08
3.
論文
The factors affecting TCP transferring performance on mesh networks International Conference on Computer Science and Information Technology (共著) 2023/07/07
4.
論文
位相制御による高周波グロー放電プラズマの生成 日本材料科学会論文誌 材料の科学と工学 60 (1),18-22頁 (共著) 2023/02
5.
論文
Evaluation of Is Oxide Layer Anodized by Extremely Diluted HF Solution (共著) 2022/11/10
全件表示（23件）
受賞学術賞
1.
2024/12/10
ICMSE BEST PRESENTATION AWARD
2.
2022/11/11
The Materials Research Society of Korea Best Presentation Awards (Evaluation of Si Oxide Layer Anodized by Extremely Diluted HF Solution)
3.
2015/11
日本材料科学会 若手奨励賞 (二重励起プラズマを用いたメゾスコピックSiへの表面処理効果)
4.
2015/06
日本材料科学会 若手奨励賞 (高周波グロー放電プラズマの位相制御とメゾスコピックSiへの処理効果)
所属学会
1.
電子情報通信学会
2.
2022/04/01 ～
∟ コミュニケーションシステム研究会専門委員
3.
日本シミュレーション学会
4.
IEEE
5.
日本材料科学会
職歴
1.
1999/08 ～ 2000/09
Polytechnic University Resercher
学会発表
1.
2024/06/09
Fabrication of Silicon Micro/nanostructures by Anodization and their Surface Analysis (9th Korea-Japan International Symposium on Materials Science and Technology (KJMST) 2024)
2.
2022/11/10
Evaluation of Is Oxide Layer Anodized by Extremely Diluted HF Solution (7th Korea-Japan International Symposium on Materials Science and Technology)
3.
2021/03/19
ウイルス影響下における効果的な工学実験の試み２ (第68回応用物理学会春季学術講演会)
4.
2020/09/10
ウイルス影響下における効果的な工学実験の試み (第81回応用物理学会秋季学術講演会)
5.
2020/03/14
エンジニアのためのコミュニケーション能力および表現能力を高める実験教育の試み2 (第67回応用物理学会春季学術講演会)
全件表示（22件）