(最終更新日:2017-10-31 10:51:52)
  ホリウチ トシユキ   HORIUCHI Toshiyuki
  堀内 敏行
   所属   東京電機大学  工学部 先端機械工学科(2017年度新設)
   東京電機大学  工学部 機械工学科
   東京電機大学大学院  先端科学技術研究科 機械システム工学専攻
   東京電機大学大学院  工学研究科 機械工学専攻
   職種   教授
■ 著書・論文歴
1. 著書  Simple Fabrication Method of Micro-Fluidic Devices with Thick Resist Flow Paths Designed Arbitrarily Using Versatile Computer Aided Design Tools (共著) 2015/11
2. 著書  光技術入門 [第2版] (単著) 2014/07
3. 論文  リソグラフィで転写した凹面レジストパターンを利用したマイクロレンズアレイの製作と評価 (共著) 2017/08
4. 論文  Improvement of Patterning Homogeneity in a Field of Projection Exposure System Using a Gradient-Index Lens Array (共著) 2017/06
5. 論文  壁面への吸着静止維持可能なクアッドコプタ型飛翔ロボットの開発 (共著) 2017/06
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■ 受賞学術賞
1. 2015/09 基礎・材料・共通部門特別賞 学術・貢献賞
■ 学会発表
1. 2016/04/06 Laser-Scan Lithography onto Ultra-Fine Pipes 100 μm in diameter(Photomask Japan 2016, The 23rd Symposium on Photomask and NGL Mask Technology)
2. 2016/04/06 Synchronous Scan-Projection Lithography for Fabricating Cylindrical Micro-Parts(Photomask Japan 2016, The 23rd Symposium on Photomask and NGL Mask Technology)
3. 2016/04/06 Technology for Fabricating Micro-Lens Arrays Utilizing Lithographically Replicated Concave Resist Patterns(Photomask Japan 2016, The 23rd Symposium on Photomask and NGL Mask Technology)
4. 2016/06/24 マイクロ凸レンズアレイの反転型用凹球面レジストパターンの形成(The 33rd International Conference of Photopolymer Science and Technology, Materials & Processes for Advanced Microlithography, Nanotechnology, and Phototechnology, 日本語シンポジウム)
5. 2016/06/24 液晶マトリックス投影露光における液晶表示の階調制御による露光フィールド内パターン線幅の均一化(The 33rd International Conference of Photopolymer Science and Technology, Materials & Processes for Advanced Microlithography, Nanotechnology, and Phototechnology, 日本語シンポジウム)
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