| 発表年月日 | 1996/03 |
|---|---|
| 発表テーマ | X-ray generation from femtosecond Ti: Al2O3 laser produced plasma on porous silicon |
| 会議名 | Photon Technology Workshop |
| 開催地名 | Tsukuba (Japan) |
| 学会区分 | 国際学会 |
| 発表形式 | 口頭（一般） |
| 単独共同区分 | 共同 |
| 発表者・共同発表者 | Tadashi Nishikawa, Hidetoshi Nakano, Hyeyoung Ahn, Tadashi Serikawa, and Naoshi Uesugi |