シノダ ヒロユキ
SHINODA Hiroyuki
篠田 宏之
所属
東京電機大学 工学部 電子システム工学科
東京電機大学大学院 先端科学技術研究科 電気電子システム工学専攻
東京電機大学大学院 工学研究科 電気電子工学専攻
職種
教授
発表年月日
2013/09
発表テーマ
スパッタ技術による高品質半導体薄膜の形成とその応用
会議名
平成25年度次世代産業カレッジ
主催者
埼玉県産業労働部産業支援課
開催地名
東京電機大学東京千住キャンパス
会議区分
国内会議
講演区分
講師
単独共同区分
単独
発表者・共同発表者
篠田宏之