| 言語種別 | 英語 |
|---|---|
| 発行・発表の年月 | 2016/03 |
| 形態種別 | 国際会議論文 |
| 査読 | 査読あり |
| 標題 | Fabrication of Porous Silicon Wires by Introducing Dislocations |
| 執筆形態 | 共著 |
| 掲載誌名 | The 10th Porous Semiconductors - Science and Technology 2016 (PSST2016) |
| 掲載区分 | 国外 |
| 巻・号・頁 | 04-P1-30/364,180-181 |
| 著者・共著者 | ◎Takuya Imaizumi, Tomoki Shimizu, Toshiaki Suzuki (JEOL), Takayuki Yoshino, Masaaki Niwa and Mitsuya Motohashi |