オグラ ショウヘイ
OGURA Shohei
小倉 正平
所属
東京電機大学 工学部 自然科学系列（工学部）
東京電機大学大学院 工学研究科 物質工学専攻
東京電機大学大学院 先端科学技術研究科 物質生命理工学専攻
職種
教授
発表年月日
2018/04/07
発表テーマ
反応性マグネトロンスパッタ法を用いたYH2 単相エピタキシャル薄膜の配向制御
会議名
日本表面科学会第3回関東支部講演大会
開催地名
東京工業大学
学会区分
研究会・シンポジウム等
発表形式
ポスター
単独共同区分
共同
発表者・共同発表者
小松遊矢, 清水亮太, 笹原悠輝, 西尾和記, 大口裕之,
小倉正平
, 福谷克之, 折茂慎一, 一杉太郎