オグラ ショウヘイ
OGURA Shohei
小倉 正平
所属
東京電機大学 工学部 自然科学系列（工学部）
東京電機大学大学院 工学研究科 物質工学専攻
東京電機大学大学院 先端科学技術研究科 物質生命理工学専攻
職種
教授
発表年月日
2018/05/25
発表テーマ
共鳴核反応法を用いた水素起因ゲート絶縁膜劣化の観測
会議名
シリコンテクノロジー研究会
開催地名
学習院大学
学会区分
研究会・シンポジウム等
発表形式
口頭（一般）
単独共同区分
共同
発表者・共同発表者
三谷祐一郎, 東悠介, 高石理一郎, 鈴木正道, 中崎靖, 富田充裕, 松本益明, 加藤弘一,
小倉正平
, 福谷克之