オグラ ショウヘイ OGURA Shohei
小倉 正平
所属 東京電機大学 工学部 自然科学系列(工学部)
東京電機大学大学院 工学研究科 物質工学専攻
東京電機大学大学院 先端科学技術研究科 物質生命理工学専攻
職種 教授
発表年月日 2018/03/19
発表テーマ Impact of growth temperature on passivation performance and hydrogen profile near the a-Si:H/c-Si interface
会議名 SiliconPV 2018
開催地名 Lauasnne
学会区分 国際学会
発表形式 口頭(一般)
単独共同区分 共同
発表者・共同発表者 K. Gotoh, S. Ogura, S. Kato, Y. Kurokawa, K. Fukutani, N. Usami